Análisis de reactivos de alta pureza y clasificación de reactivos de alta pureza
Tiempo de liberación:
2024-01-30
Un reactivo con una pureza mucho mayor que la del grado premium se llama reactivo de alta pureza. Se desarrolla sobre la base de reactivos universales y es un reactivo puro producido por métodos especiales para fines especializados. Los reactivos de alta pureza controlan el contenido de impurezas, mientras que los reactivos de referencia controlan el contenido principal. Los reactivos de referencia se pueden preparar usando soluciones estándar, pero los reactivos de alta pureza no se pueden usar para la preparación de soluciones estándar (excepto para óxidos elementales).
Un reactivo con una pureza mucho mayor que la del grado premium se llama reactivo de alta pureza. Se desarrolla sobre la base de reactivos universales y es un reactivo puro producido por métodos especiales para fines especializados. Los reactivos de alta pureza controlan el contenido de impurezas, mientras que los reactivos de referencia controlan el contenido principal. Los reactivos de referencia se pueden preparar usando soluciones estándar, pero los reactivos de alta pureza no se pueden usar para la preparación de soluciones estándar (excepto para óxidos elementales).
En la actualidad, no existe una especificación unificada y clara a nivel internacional. En China, a excepción de algunos productos que han establecido estándares nacionales, los estándares de calidad para la mayoría de los reactivos de alta pureza siguen siendo muy inconsistentes, y hay diferentes nombres como alta pureza, ultrapura, ultrapura, pura espectral, pura electrónica, etc. La pureza del producto se representa generalmente por 9. Por lo tanto, En la columna de especificación, marque 2 9s, 3 9s, 4 9s, y así sucesivamente. Según este principio, las sustancias de alta pureza se pueden dividir en:
El contenido total de impurezas no excederá de 1,5 × 10-2%, con una pureza de 3.5 9s (99,95) abreviado como 3.5N
El contenido total de impurezas no excederá de 1,0 × 10-2%, con una pureza de 4 9s (99,99) abreviado como 4.0N
El contenido de impureza total no excederá de 1,0 × 10-3%, con una pureza de 5 9s (99.999) abreviado como 5N
La inspección de la pureza o el contenido de impurezas de reactivos o elementos de alta pureza generalmente se determina mediante métodos como espectroscopia de absorción atómica, espectroscopia de emisión atómica, cromatografía, espectrometría de masas, análisis químico colorimétrico, etc. Las especificaciones de aniones generalmente se basan en los estándares de grado de reactivo, Y los productos sin estándares de grado son formulados por la propia unidad de producción. Según los diferentes usos, los reactivos de alta pureza se dividen en varias categorías:
Reactivos de purificación ordinarios
Se refiere a algunos metales elementales de alta pureza, óxidos, sales metálicas, etc., comúnmente utilizados en materiales industriales de energía atómica, materiales industriales electrónicos, materiales básicos de semiconductores, etc. Los óxidos elementales metálicos se utilizan para preparar soluciones estándar y servir como sustancias estándar. Este tipo de reactivo a menudo requiere un contenido entre 4N-6N.
Reactivo puro electrónico ultra limpio
Los reactivos ultra limpios y de alta pureza son productos químicos especializados en el proceso de fabricación de circuitos integrados (CI), utilizados en la limpieza de obleas de silicio, la litografía y los procesos de corrosión. Los requisitos para impurezas solubles y partículas sólidas en este reactivo de alta pureza son muy estrictos. Para satisfacer la creciente demanda de integración de IC, la Asociación de la Industria de Semiconductores ha introducido recientemente estándares de calidad de reactivos en los niveles de Semic7 (adecuado para tecnología de proceso de 0.8-1.2 micrones) y Semic8 (adecuado para tecnología de proceso de 0.2-0.6 micrones). Sobre la base de los reactivos de grado MOS y grado BV-I existentes, China también ha desarrollado estándares para reactivos de grado BV-II y BV-III (equivalente a Semic7). Mi instituto de investigación también ha desarrollado varios niveles de MOS, nivel de BV-I, nivel de BV-II y algunos reactivos de nivel de BV-III, con un tamaño de partícula (tamaño de partícula 0,5) ≤ 25-100 piezas/ml e impurezas metálicas totales ≤ 10-3-10-5%
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